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入榜《2026年CNPP靶材十大品牌榜中榜名录》的有:JX日矿金属、Honeywell霍尼韦尔、TOSOH东曹、江丰电子KFMI、有研亿金、丰联科光电、映日科技、ACETRON、ULVAC爱发科、Linde AMT。最新靶材十大品牌排行榜由CN10排排榜技术研究部门和CNPP品牌数据研究部门共同发布,是通过专业独立调研测评、AI人工智能、大数据、云计算、资料统计分析后客观呈现的真实结果,不是认定认证,不是竞价排名,不是表彰评选,不是评价评比,排序不分先后,仅供参考。
2026
靶材10大品牌
  • JX日矿金属

    日矿金属株式会社

    • 发源地:日本
    • 成立时间:1905
    • 点亮荣誉勋章:3个
    JX金属株式会社始于1905年创立的日立矿山,是日本有色金属与先进材料企业,旗下业务覆盖资源开发、冶炼精炼、电子材料生产销售及金属回收的全产业链,涉足与铜、稀有金属等有色金属相关的尖端材料的生产和销售...更多>>
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  • Honeywell霍尼韦尔

    霍尼韦尔(中国)有限公司

    • 发源地:美国
    • 成立时间:1885
    • 点亮荣誉勋章:2个
    创始于1885年美国,全球颇具影响力的高科技企业,业务覆盖航空航天科技、智能建筑科技、能源与可持续技术、智能工业科技等领域,于1935年正式进入国内市场。霍尼韦尔致力于提供广泛的工业技术和数字解决方案...更多>>
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  • TOSOH东曹

    东曹(中国)投资有限公司

    • 发源地:日本
    • 成立时间:1935
    • 点亮荣誉勋章:3个
    TOSOH东曹始创于1935年日本,是一家大型石油化工综合企业集团,致力于提供现代生活所需的各种原材料及产品,产品涉及石油化工、无机化工、精细化 工、电子材料、医疗诊断和食品制造等领域,为工业建立了平...更多>>
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  • 4

    江丰电子KFMI

    宁波江丰电子材料股份有限公司

    • 发源地:宁波市
    • 成立时间:2005
    • 点亮荣誉勋章:2个
    江丰电子成立于2005年,是从事集成电路制造用超高纯金属材料及溅射靶材研发生产的上市公司(股票代码300666),已拥有覆盖Al,Ti,Ta,Cu等多种金属材料及溅射靶材全工艺流程的完整自主知识产权,...更多>>
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  • 5

    有研亿金

    有研亿金新材料有限公司

    • 发源地:北京市
    • 成立时间:2000
    • 点亮荣誉勋章:2个
    有研亿金是有研股份旗下专注于高纯薄膜材料、稀贵金属功能材料和铂族金属材料研发、生产与销售的子公司,是全球知名的集成电路用超高纯靶材供应商,并打造了材料种类齐全的高端电子信息材料和稀贵金属功能材料研发制...更多>>
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  • 6

    丰联科光电

    丰联科光电(洛阳)股份有限公司

    • 发源地:洛阳市
    • 成立时间:2001
    • 点亮荣誉勋章:1个
    丰联科光电成立于2001年,为上市公司隆华科技旗下全资子公司,是专业从事电子信息靶材、难熔金属材料及深加工制品的生产、研发和销售的高新技术企业,旗下拥有晶联光电、丰联科新材等数家子公司,主要生产钼及钼...更多>>
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  • 7

    映日科技

    芜湖映日科技股份有限公司

    • 发源地:芜湖市
    • 成立时间:2015
    • 点亮荣誉勋章:1个
    映日科技成立于2015年,是一家专业从事高性能溅射靶材研发、生产及销售的高新技术企业,是国内较早掌握大尺寸ITO靶材制造工艺的企业,旗下产品种类覆盖氧化物靶材、金属靶材和其他靶材,广泛应用于消费电子、...更多>>
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  • 8

    ACETRON

    福建阿石创新材料股份有限公司

    • 发源地:福州市
    • 成立时间:2002
    • 点亮荣誉勋章:2个
    阿石创创建于2002年,是专业从事PVD镀膜材料研发、生产与销售的上市公司(股票代码:300706),主要产品包括ITO、钼、铜、铝、硅、钛、钽及各类合金与稀有金属靶材,覆盖新型显示、光学光通讯、太阳...更多>>
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  • 9

    ULVAC爱发科

    爱发科(中国)投资有限公司

    • 发源地:日本
    • 成立时间:1952
    • 点亮荣誉勋章:1个
    ULVAC爱发科成立于1952年日本,是真空技术与精细加工领域的创新者,业务覆盖半导体设备、真空组件、镀膜装置等,为电子、能源、环保等领域提供尖端解决方案。于2003年在中国建立全资子公司,形成了覆盖...更多>>
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  • 10

    Linde AMT

    林德集团

    • 发源地:德国
    • 成立时间:
    • 点亮荣誉勋章:2个
    Linde AMT是林德集团旗下先进材料技术业务单元,前身为普莱克斯表面技术,专注于高性能溅射靶材、表面涂层及雾化金属粉末的研发与生产。依托林德集团在工业气体领域的全球网络,其产品广泛应用于半导体、显...更多>>
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本榜单文章由 CNPP榜单研究员226号 上传提供 2026-09-6
知识点
靶材的用途

1、用于显示器上

靶材目前被普遍应用于平面显示器(FPD)上。近年来,平面显示器在市场上的应用率逐年增高,同时也带动了ITO靶材的技术与市场需求。ITO靶材有两种,一种是采用铟锡合金靶材,另外一种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结。

2、用于微电子领域

靶材也被应用于半导体产业,相对来说半导体产业对于靶材溅射薄膜的品质要求是比较苛刻的。现在12英寸(300衄口)的硅晶片也被制作出来,但是互连线的宽度却在减小。目前硅片制造商对于靶材的要求都是大尺寸、高纯度、低偏析以及细晶粒等,对其品质要求比较高,这就要求靶材需要具有更好的微观结构。

3、用于存储技术上

存储技术行业对于靶材的需求量很大,高密度、大容量硬盘的发展,离不开大量的巨磁阻薄膜材料,CoF~Cu多层复合膜是如今应用比较广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的TbFeCo合金靶材还在进一步发展,用它制造出来的磁光盘有着使用寿命长、存储容量大以及可反复无接触擦写的特点。

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