ITO靶材，全称为氧化铟锡靶材，是电子信息工业领域的关键材料之一。氧化铟锡（英文全称为Indium Tin Oxide，简称“ITO”），由氧化铟和氧化锡粉末按照一定比例混合后，经过一系列的生产工艺加工成型，再高温烧结形成的黑灰色陶瓷半导体材料。薄薄的氧化铟锡在可见光范围内呈现透明状。不过在红外光线下，氧化铟锡层起着不透明的作用，反射红外线。

氧化铟锡作为一种n型半导体材料，具有高的导电率、优异的可见光透过率、较强的机械硬度和良好的化学稳定性，主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管、太阳能电池、抗静电镀膜、EMI屏蔽的透明传导镀、各种光学镀膜等。

ITO靶材是溅射靶材中的一种，主要通过磁控溅射将ITO靶材气化，溅镀到玻璃基板或柔性有机薄膜上，制造成ITO薄膜，后者为透明导电氧化物薄膜，厚度一般为30-200纳米。