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清溢光电南海基地投产 艾思洁净科技助力高端掩膜版国产化突破

发布日期 2026-01-22 评论 反馈 版权声明
摘要:为加快掩膜版及环境控制系统的国产化进程,国内企业正着力提升产业链自主可控能力。作为该领域的国家级专精特新企业,清溢光电南海生产基地的投产,标志着28纳米及以上制程的高端掩膜版实现国产化突破,有力推动显示与半导体领域高端掩膜版的国产替代进程。面对掩膜版生产中对环境稳定性的极致要求,AECiR艾思基于对电子行业洁净场景的深刻理解,为清溢光电量身打造了全场景围护系统解决方案,下面一起来了解一下。

根据国际半导体产业协会(SEMI)数据显示,2025年全球半导体制造设备销售额达1330亿美元,其中中国大陆市场占比超40%,继续引领全球产能扩张。在这一进程中,掩膜版作为制造流程中的“精度基准”,其生产对环境要求极为严格,通常需维持在ISO Class 3至Class 5的高洁净等级。颗粒物、温湿度或静电的微小波动都可能导致产品失效,对环境控制的稳定性和精度构成了极高挑战。

以专业洁净方案,护航国产高端掩膜版自主化征程

为加快掩膜版及环境控制系统国产化进程,国内企业正着力突破高精度环境控制与高端掩膜版制造等关键环节,通过推进设备、材料和工艺的本地化研发,提升产业链自主可控能力。作为该领域的国家级专精特新企业,清溢光电南海生产基地的投产,标志着28纳米及以上制程的高端掩膜版实现国产化突破,有力推动显示与半导体领域高端掩膜版的国产替代进程。

清溢光电南海基地

精准定制 + 硬核技术,AECiR艾思的洁净围护解决方案

面对掩膜版生产中对环境稳定性的极致要求,AECiR艾思基于对电子行业洁净场景的深刻理解,为清溢光电量身打造了全场景围护系统解决方案:

核心工艺区:采用高标准手工洁净板,凭借优异的保温隔热性能,将温度波动控制在±0.1℃范围内,有效维持环境稳定,并助力达成ISO Class 5级洁净标准。

设备与高负荷区域:运用防静电洁净板,具备轻质高强、抗微振特性,振幅控制在1μm以内,同时表面电阻满足10⁶–10⁹Ω防静电要求,为设备长期稳定运行提供保障。整套系统通过高标准设计与高效密封安装,确保洁净区压差稳定在15Pa以上,全面匹配掩膜版生产的严苛环境标准。

AECiR艾思全场景围护系统解决方案

来自用户的认可

清溢光电佛山生产基地项目工程部负责人表示:“AECiR艾思不仅高效完成了围护系统的交付,为我们争取到关键的项目时间,更从方案设计到落地全程提供专业支持,其洁净环境构建能力完全符合半导体制造的高标准要求,保障了生产环境的长期稳定与可靠。凭借对电子行业洁净需求的精准把握与综合技术能力,AECiR艾思为清溢光电高端掩膜版制造构建起坚实的环境屏障,实现了从产品供应到整体洁净价值交付的跨越。”

协同攻坚,共赴国产半导体新征程

从单一产品供应到整体解决方案输出,AECiR艾思始终以技术创新响应产业需求。未来,艾思将持续深耕洁净领域,与更多半导体企业携手,以专业洁净方案赋能核心制造,助力中国半导体在全球高端市场占据重要地位,书写自主化发展的新篇章。

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